近日，2025表观遗传前沿理论与方法学术论坛在北京圆满落幕。来自多家顶尖高校与研究机构的领军学者，围绕表观遗传学的最新理论突破与技术方法开展交流。真迈通过专题报告与仪器展示，呈现自身在表观组学研究中的应用赋能。

论坛报告环节，真迈领域应用专家郭延青博士受邀作“高通量测序技术赋能表观组学研究”的主题分享。郭延青博士结合平台验证与项目案例，全面展示了真迈在表观组学研究领域的自主创新实力。真迈SURFSeq系列国产高通量测序平台能够支持对DNA甲基化、RNA修饰及染色质互作等多类型表观遗传信息的精准获取，并在单细胞与空间多组学整合方向展现出强大潜力。真迈于近日推出的CMS测序技术与SURFSpace空间组学芯片，则进一步提升了测序精度与数据维度。

论坛期间，真迈FASTASeq S、FASTASeq 300与SURFSeq 5000系列高通量测序平台集中亮相展区，吸引众多与会嘉宾驻足交流。真迈团队围绕平台性能、运行流程以及与现有实验体系的衔接进行了详细介绍，使与会嘉宾直观了解各测序平台在表观组学研究中的技术优势与应用方向。在此基础上，双方就实际项目需求与未来合作方向展开进一步沟通。

随着表观组学研究的快速发展，科研端对国产测序平台的本地化测序能力、供应链稳定性及质量体系可控性等需求日益突出。真迈基于自主可控的核心部件与长期平台验证，持续为大规模表观组学项目、临床前研究与方法学探索提供稳定的底层支撑。